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高分辨率顯示屏
來源： 日期：2013-11-15 15:36:16 人氣：標(biāo)簽：
今天，背板技術(shù)主要分為三種，分別是非晶硅(a-si)，低溫多晶硅(ltps)和金屬氧化物(mo)。如果你正在考慮入手一臺(tái)平板電視，你會(huì)關(guān)注電視屏中微小的晶體管技術(shù)嗎?
在介紹背板技術(shù)前，這里先界定一些顯示術(shù)語。大多數(shù)消費(fèi)者對(duì)圖像的清晰度，顏色的亮度，視角及運(yùn)動(dòng)圖像的殘像等指標(biāo)非常感興趣。
分辨率是大家比較熟悉的一個(gè)重要的顯示指標(biāo)。
高清晰分辨率(hd)是目前電視的標(biāo)準(zhǔn)配置，是顯示屏像素?cái)?shù)量的多少。hd tv規(guī)格是指具備1080行x1920列，總共2,073,600個(gè)像素(事實(shí)上，每個(gè)像素還要由rgb三個(gè)子像素構(gòu)成，以子像素計(jì)的顯示單元三倍于上述像素?cái)?shù))。但是，即使對(duì)于hd分辨率的55英寸平板電視，其像素密度只有40ppi。智能手機(jī)和平板電腦顯示屏的觀看距離較近，所以具有更高的ppi指標(biāo)。例如蘋果公司的第三代ipad具有令人驚訝的264ppi像素密度。如此看來，伴隨電視尺寸的進(jìn)一步增大，超高清分辨率將成為電視向更高分辨率方向發(fā)展的下一個(gè)里程碑。
另一個(gè)關(guān)鍵參數(shù)是刷新頻率，60赫茲---即一幅畫面每秒鐘被刷新60次---是業(yè)內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格。當(dāng)需要顯示更快動(dòng)作的影像時(shí)，為了使lcd圖像更清晰，很多廠家已經(jīng)開始采用120赫茲及240赫茲的刷新頻率;頻率的提升是否值得付出額外的價(jià)格，似乎更多地取決于每個(gè)消費(fèi)者對(duì)于畫質(zhì)差異的認(rèn)同程度。
3-d顯示內(nèi)容需要不低于120hz的刷新頻率。目前大部分的3d顯示是利用兩幅不同視覺深度的畫面制造出3d圖像效果的。3d眼鏡幫助我們?cè)谝粋�(gè)時(shí)段只看到單幅畫面，然后經(jīng)過我們的大腦將兩幅不同時(shí)段的畫面合成為一個(gè)完整的具有三維景深的圖像。
高清晰度，更快的刷新率和3d顯示內(nèi)容已經(jīng)逐漸超出目前非晶硅晶體管(a-si tft)的驅(qū)動(dòng)能力，不能滿足上述更高指標(biāo)的要求。
回顧平板顯示過去多年的發(fā)展歷程，a-si一直是tft背板的主要技術(shù)方案。a-si tft技術(shù)具有制造成本低，成品率較高以及基板制造升級(jí)相對(duì)簡單，目前可以用超大的9平方米玻璃基板進(jìn)行量產(chǎn)。這種世代升級(jí)帶來的成本降低日益滿足了消費(fèi)者的價(jià)格預(yù)期，使得a-si tft-lcd產(chǎn)品成為了顯示業(yè)內(nèi)的主流產(chǎn)品。
晶體管的功能主要是為像素充電，快速達(dá)到工作電壓，并保持像素上的電量直到下一次刷新信號(hào)。對(duì)于晶體管來講，一個(gè)關(guān)鍵的性能是載流子的遷移率，即電子的移動(dòng)速度。電子遷移率低意味著響應(yīng)緩慢。a-si的載流子遷移率將不能夠勝任高分辨率，高響應(yīng)速度顯示屏的要求，如 新的高端智能手機(jī)和平板電腦等顯示屏。
可替代a-si的技術(shù)目前有l(wèi)tps(低溫多晶硅)和mo(金屬氧化物)。 好的替代材料應(yīng)該有更高的載流子遷移率，而且制造成本要低，量產(chǎn)的良率要高以及制造工藝能夠向大尺寸化(同時(shí)保持薄膜的均勻性)升級(jí)，進(jìn)一步發(fā)揮世代升級(jí)帶來的單位面積制造成本降低的優(yōu)勢(shì)。
相對(duì)地，ltps具有 高的載流子遷移率，不過制造成本也 高，由于ltps需要更多的工藝步驟。而且ltps工藝在獲得良好的薄膜均勻性和高良品率方面也面臨很大的挑戰(zhàn)。此外，ltps在世代升級(jí)上受到一定的限制，目前主要的瓶頸在激光退火設(shè)備，只能對(duì)應(yīng)中等基板尺寸(小于3平方米)。
mo技術(shù)，采用銦鎵鋅氧組分的金屬氧化物成為業(yè)界 具希望的替代技術(shù)，能夠在大尺寸玻璃基板上獲得所需的高遷移率和高均勻性。(今天，應(yīng)用材料公司正式發(fā)布了一項(xiàng)新的pecvd技術(shù)，用于制造mo tft的絕緣薄膜，其可容納的基板尺寸有9平方米大小，如前面a-si中提到的尺寸。參閱電子工程專輯報(bào)道：應(yīng)用材料全新pecvd薄膜技術(shù)用于下一代更高分辨率顯示)mo工藝，對(duì)比ltps，所需的掩膜工序更少，而且具有在室溫條件沉積薄膜的優(yōu)點(diǎn)，意味著在未來的柔性顯示襯底上可以進(jìn)行同樣的成膜工藝。
如果顯示產(chǎn)業(yè)能夠成功實(shí)現(xiàn)這一新型背板技術(shù)的飛躍，這種改變的成本還是很經(jīng)濟(jì)的，而且改變的細(xì)節(jié)對(duì)消費(fèi)者來講也是相對(duì)清晰可見的。
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